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真空烘烤除氣裝置
作者：華宇分公司時間：2022-12-23點擊：9108次
該設備與大型微波源對接，可以完成微波在空間不同高度環(huán)境中相關實驗?？梢詫崿F(xiàn)某一高度、不同濕度、不同溫度下的環(huán)境模擬實驗。依據(jù)這套設備組建成了我國第一個HPM大氣等離子體實驗室。
產品參數(shù)
序號 | 項目 | 技術參數(shù) |
1 | 真空容器尺寸 | Φ1800mm×2700mm（L） |
2 | 真空度 | 1×105Pa～1×10-2 Pa |
3 | 溫度范圍 | 熱沉溫度在-60℃～40℃范圍內可調，控制點 |
4 | 控制精度 | ±1℃ |
5 | 濕度指標 | 在15℃～40℃范圍內，壓力從2000 Pa～大氣壓，水蒸汽在此壓力范圍內分壓控制精確優(yōu)于±10% |
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